1. छप्पर आणि मजला पूर्ण झाला आहे.   2. खिडक्या आणि दरवाजे भिंत पटल वर पूर्वस्थापित आहेत. &...

BIPV (बिल्डिंग इंटिग्रेटेड फोटोव्होल्टेइक) हे एक तंत्रज्ञान आहे जे इमारतींमध्ये सौर ऊर्जा निर्मिती उत्पादनांचे एकत्रीकरण करते. यात केवळ फोटोव्होल्टेइक पॉवर निर्मिती प्रकल्पच नाही तर इमारतींच्या मूलभूत कार्यात्मक गरजाही पूर्ण करू शकतात. बीआयपीव्ही छताचे फायदे: स्वयं-वापरासाठी वीजनिर्मितीसाठी पारंपारिक छप्पर पुनर्स्थित करा आणि ग्रीडमध्ये पुरवल्या जाणाऱ्या अतिरिक्त वीज इमारतीच्या छताचे सेवा आयुष्य 30 वर्षांपर्यंत वाढवा. गुंतवणुकीवर उच्च परतावा आणि सतत स्थिर कमाई सरकारची संबंधित धोरणे ऊर्जा संरक्षण आणि उत्सर्जन कमी करण्यास जोरदार प्रोत्साहन देतात. लो-कार्बन आणि ग्रीन बिल्डिंग एंटरप्रायझेसची यादी प्रविष्ट करू शकता BIPV प्रणालीचे फायदे: BAPV वितरित पॉवर स्टेशनच्या तुलनेत जेथे रंग स्टील प्लेटच्या छतावर घटक घातले जातात, BIPV एकात्मिक फोटोव्होल्टेइक छप्पर संपूर्ण छप्पर पृष्ठभाग कव्हर करण्यासाठी डिझाइन केले जाऊ शकते. संपूर्ण फोटोव्होल्टेइक ॲरेमध्ये उच्च उर्जा, उच्च उर्जा निर्मिती आणि कमी एकूण खर्च आहे.

कोळसा शेड 76.1 मीटर रुंदी, 325 मीटर लांबी, 25.5 मीटर उंची   एकूण स्टीलचे प्रमाण 3898 टनांपर्यंत पोहोचते, ...

या ट्रेसल प्रकल्पाचा सिंगल स्पॅन 80 मीटरपर्यंत पोहोचतो, जो चीनमधील तत्सम ट्रेसलमधील सर्वात मोठा स्पॅन आहे. यात डबल-बेल्ट आणि डबल-लेयर ग्रिड ट्रस स्ट्रक्चर आहे.

हा प्रकल्प बहुमजली स्टील स्ट्रक्चर फ्रेम सिस्टमसह संबलपूर शहर, ओडिशा, भारताच्या उत्तर भागात स्थित आहे.

ग्राउंड पॉवर प्लांटचे फायदे: मोठ्या व्यवसायामुळे उपकरणे खरेदीची किंमत कमी होते. साइट निवडीचे अनेक पर्याय आहेत आणि नवीन जमीन वापराचे नमुने सतत विकसित केले जाऊ शकतात. ग्राउंडची पॉवर क्वालिटी – टाईप ग्रिड – कनेक्टेड सिस्टीम उच्च आहे, कनेक्शन सौम्य आहे आणि त्याचा राष्ट्रीय पॉवर ग्रिडवर फारसा प्रभाव पडत नाही. ग्राउंड – माउंट केलेले फोटोव्होल्टेइक पॉवर प्लांट सर्वसमावेशक वीज निर्मिती कार्यक्षमता वाढवण्यासाठी इष्टतम अभिमुखतेसह स्थापित केले जातात. वीज पुरवठा केंद्रीकृत, स्थिर आणि उच्च गुणवत्तेचा आहे आणि तो पॉवर ग्रिडला नियमित आणि सतत वीज पुरवठा करू शकतो.

चायना स्टील स्ट्रक्चर गोल्ड अवॉर्ड जिंकला

प्रोजेक्ट स्केल: लांबी 320 मी आणि रुंदी 90 मी इमारत क्षेत्र: 28,800 मी²   प्रकल्प स्थान...